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半导体电子过滤有哪些要求
TANVI2024-08-01 TANVI295
半导体电子过滤在半导体制造过程中扮演着至关重要的角色,其要求相当严格,以确保半导体产品的质量和可靠性。以下是半导体电子过滤的主要要求:


一、高精度过滤


过滤精度:半导体生产使用的化学品和气体精度要求极高,通常达到G4等级以上。过滤产品需要能够过滤掉极微小的颗粒和杂质,包括细菌、病毒等微生物,以确保流体的纯净度。例如,电子级异丙醇(IPA)产品的纯度通常在99.9%以上,且不含任何杂质或有害物质。


滤芯材料:采用高精度、低析出的滤芯材料,如聚四氟乙烯(PTFE)薄膜滤芯,其过滤精度可达到10nm以下,有效保障最少的物质释放,并对污染物进行绝对精度的稳定控制。


二、耐高温高压


温度适应性:半导体制造过程中涉及多种高温工艺,如薄膜沉积工艺中的工作温度覆盖200~400℃。因此,过滤产品需要能够耐受这些高温环境,不变形、不失效。


压力稳定性:在高压环境下,过滤产品需要保持稳定的过滤性能,不出现泄漏或破损现象。


三、低析出物


化学稳定性:过滤产品在与半导体生产过程中使用的化学品接触时,不能产生有害的析出物,以免污染产品。


材料选择:因此,需要选择化学稳定性好的材料作为滤芯基材,如聚四氟乙烯等。


四、耐腐蚀性


抗腐蚀能力:半导体制造过程中使用的化学品往往具有强腐蚀性,如酸碱溶液等。过滤产品需要具有优异的抗腐蚀能力,以延长使用寿命并减少维护成本。


五、高效过滤系统


多级过滤:在半导体生产的关键制程中,如特气柜管路传送系统、晶圆片在工艺腔室间的交互传送等,需要设置多层过滤装置,以确保流体的纯净度。


快速放气应用:在真空腔室快速放气过程中,需要采用特殊设计的扩散器,如Gasfaver扩散器,结合扩散器的气体流动特性和高效过滤器的颗粒拦截特性,以避免湍流吹起工艺腔室内的颗粒甚至是硅片。


六、环保与经济性


资源回收:半导体制造过程中会产生大量废水,需要采用有效的废水回收和处理系统,如Selfclear速可清+Dycera旋转陶瓷膜过滤系统,将废水处理达到可循环使用的标准,实现经济环保的双赢效果。


维护成本:选择长寿命、易更换的滤芯和过滤器,以降低维护成本和停机时间。


以上,半导体电子过滤的要求涉及高精度过滤、耐高温高压、低析出物、耐腐蚀性、高效过滤系统以及环保与经济性等多个方面。这些要求共同确保了半导体制造过程中的流体纯净度和产品质量。